CELIMAX Ji Woo Gae Cica PHA Peel 2-Step Gel Mask 1 pz

Mascarilla facial de 2 pasos diseñada para eliminar impurezas y exceso de residuos mientras calma, hidrata y refresca la piel. El tratamiento combina un Peeling Stick con PHA para una exfoliación suave y una mascarilla de hidrogel enriquecida con Centella Asiatica, Pantenol y Nano Hyal Teca, ideal para recuperar el confort de la piel estresada o sensibilizada. Limpieza y exfoliación suave: El Peeling Stick con PHA ayuda a eliminar impurezas y células muertas sin resecar excesivamente la piel, dejando una textura más suave y uniforme. Calma y refresca: La Centella Asiatica y el Pantenol ayudan a aliviar la sensación de irritación, mientras aportan hidratación y un agradable efecto refrescante. Hidratación y barrera cutánea: Nano Hyal Teca ayuda a proporcionar hidratación y a mantener la barrera de la piel confortable y equilibrada. Hidrogel de alta adherencia: La mascarilla se adapta estrechamente al rostro para mantener la esencia en contacto con la piel y favorecer la absorción de sus ingredientes activos. Ideal para piel sensible: Dermatológicamente probada y formulada para proporcionar un cuidado calmante incluso cuando la piel se encuentra estresada por factores ambientales. Modo de uso: Con el rostro limpio y seco, desliza suavemente el Peeling Stick con PHA por todo el rostro para eliminar impurezas. Aplica primero la parte superior de la mascarilla y después la parte inferior, ajustándolas al rostro. Déjala actuar de 30 minutos a 1 hora. Retira la mascarilla y da ligeras palmaditas sobre la piel para favorecer la absorción de la esencia restante.