CNC After Sun Repair Mask
Reparierende After-Sun Tuchmaske Die CNC After SUN Mask mit Ectoin und Aloe Vera beruhigt sonnengestresste Haut und spendet intensive Feuchtigkeit. Für ein erfrischtes, beruhigtes Hautgefühl nach dem Sonnenbad und ein regeneriertes Erscheinungsbild. Inhalt: 1 Stück Textur: Tuchmaske Hauttyp: alle Produktvorteile Beruhigt sonnengestresste Haut und spendet intensive Feuchtigkeit Schützt die Haut vor Feuchtigkeitsverlust bewahrt die Spannkraft und kann die Auswirkungen schädigender UV-Strahlung ausgleichen Fältchen können gemindert werden und neuer Faltenbildung wird vorgebeugt Schlüsselwirkstoffe ALOE VERA wirkt entzündungshemmend und beruhigend. SEEKAMILLE und ECTOIN schützen die Haut und spenden ihr intensive Feuchtigkeit. Anwendung Die CNC After SUN Repair Mask auf die gereinigte Haut auflegen und nach 15-20 Minuten abnehmen. Reste des Wirkstoffserums sanft in die Haut eindrücken, bis dieses vollständig von der Haut aufgenommen wurde. Anschließend die gewohnte Pflege auftragen. Inhaltsstoffe AQUA (WATER), PROPANEDIOL, PANTHENOL, PENTYLENE GLYCOL, GLYCERIN, POLYGLYCERYL-4 CAPRATE, BUTYLENE GLYCOL, ALOE BARBADENSIS LEAF JUICE, HYDROLYZED CORN STARCH, BETA VULGARIS (BEET) ROOT EXTRACT, ALLANTOIN, SODIUM LACTATE, XANTHAN GUM, MENTHYL ETHYLAMIDO OXALATE, CITRIC ACID, ETHYLHEXYLGLYCERIN, PARFUM (FRAGRANCE), LACTIC ACID, TRIPLEUROSPERMUM MARITIMUM EXTRACT, SODIUM HYDROXIDE, ECTOIN, SODIUM SULFATE, PHENOXYETHANOL, SODIUM BENZOATE, SORBIC ACID, POTASSIUM SORBATE, CI 19140 (ACID YELLOW 23), CI 16255 (ACID RED 18), LIMONENE, CITRUS AURANTIUM PEEL OIL. Durch die permanente Weiterentwicklung der Rezepturen können verschiedene Produktversionen im Umlauf sein. Wir können nicht immer garantieren, dass diese Auflistung vollständig, aktuell und/oder fehlerfrei ist. Eine genaue Auflistung der Inhaltsstoffe ist auf der jeweiligen Produktverpackung zu finden. Merite: Geschenk beilegen bitte
Variants (1)
- Default Title — 4.90 EUR — In stock
AI Readiness
Good foundation, but some important product data is still missing.