En una muestra de escoria procedente de un alto horno se analiza el óxido de silicio (SiO2), descomponiendo 0.5002 g con ácido clorhídrico (HCl), lo que deja un residuo de 0.1414 g el cual es tratado con ácido fluorhídrico (HF) y ácido sulfúrico (H2SO4) para evaporar el tretrafluoruro de silicio (SiF4) volátil, quedando un residuo de 0.0183 g. Determine el porcentaje de óxido de silicio (SiO2) en la muestra. Referencia: Guía de Ejercicios. Universidad de Oriente. Núcleo de Anzoátegui. Respuesta: 24.61%